ROUND LAB

Pine Calming Cica Sheet Mask

CHF 4.50
Wenn Ihre Haut gestresst und gereizt ist, als wäre es jeden Tag Montag, ist es Zeit, sich mit dieser Tuchmaske zu entspannen. Die Peeling-Essenz ist mit beruhigendem Kiefernextrakt und heilendem Centella Asiatica angereichert und eignet sich perfekt zur Linderung von Reizungen und zur Reduzierung von Rötungen. Die ultra-feuchtigkeitsspendende Formel stärkt Ihre Hautbarriere und verleiht Ihnen einen glatteren und erfrischten Teint. Also benutzen Sie die Maske, entspannen Sie sich und gönnen Sie Ihrer Haut die Pflege, die sie verdient!  
25 ml
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Pine Calming Cica Sheet Mask
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Geeignet für:
Trockene Haut
Normale Haut
Mischhaut
Fettige Haut
Behandelt:
Akne / Pickel
Empfindlichkeit / Rötungen
Schwache Hautbarriere
Vergrösserte Poren
Ungleichmässige Hauttextur
Ölkontrolle
Dehydrierung
In Ihrer Routine :
🔆 / 🌙 Entspannen Sie sich nach der Reinigung und dem Toner mit dieser Maske vor Behandlungen und Feuchtigkeitscreme.

Benutzung

1. Reinigen und tonisieren Sie Ihre Haut.

2. Falten Sie die Maske auseinander, legen Sie sie auf Ihr Gesicht und richten Sie sie nach Ihren Gesichtszügen aus.

3. Lassen Sie die Maske für die auf der Verpackung angegebene Zeit einwirken.

4. Entfernen Sie die Maske und klopfen Sie das restliche Serum sanft in Ihre Haut ein, damit es vollständig einziehen kann.

5. Verwenden Sie anschliessend Ihre üblichen Behandlungen und Feuchtigkeitscremes.

Inhaltsstoffe

Water/Eau/Aqua, Glycerin, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Hydroxyaceto Phenone, Carbomer, Tromethamine, Propanediol, Polyglyceryl-4 Caprate, Polyglyceryl-6 Caprylate, Chondrus Crispus, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Hydroxyethylcellulose, Disodium EDTA, Centella Asiatica Extract, Pinus Densiflora Leaf Extract, Biosaccharide Gum-1, Capryloyl Salicylic Acid, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Portulaca Oleracea Extract, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Glycoproteins, Asiaticoside, Asiatic Acid, Madecassoside, Madecassic Acid

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